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中國(guó)芯片自給自足問(wèn)題，遲早有一天會(huì)解決，現(xiàn)在已經(jīng)看到了曙光——題記

這兩年是中國(guó)制造升級(jí)轉(zhuǎn)型極其痛苦和艱難的時(shí)期。其中關(guān)鍵就是芯片。

芯片設(shè)計(jì)并不難，我國(guó)已經(jīng)走到了世界前列。難就難在芯片制造；而光刻機(jī)是芯片從圖紙走向產(chǎn)品的最后一公里。只要這最后一公里沒(méi)有解決，我們就無(wú)法達(dá)到目的地，就像萬(wàn)米長(zhǎng)跑，哪怕前面一路遙遙領(lǐng)先，只要沒(méi)有撞線，就不能算贏，前面的努力都是徒勞，都是枉然。

不用說(shuō)大陸芯片企業(yè)，包括臺(tái)積電、三星等芯片生產(chǎn)巨頭在內(nèi)，沒(méi)有光刻機(jī)，也是不行的。雖然先進(jìn)光刻機(jī)生產(chǎn)不掌握在美國(guó)手里，而是在荷蘭企業(yè)ASML手里，但美國(guó)還是憑借自己掌握的極紫外光源解決方案被ASML采用，成功地阻止了ASML向我國(guó)出口光刻機(jī)。

但最近，破冰在即。據(jù)媒體報(bào)道，中芯國(guó)際與ASML簽訂合同，將花77億購(gòu)買(mǎi)設(shè)備、零件及服務(wù)。換句話來(lái)說(shuō)，這紙協(xié)議就是表示中芯國(guó)際即將擁有自己的光刻機(jī)，從而解決我國(guó)面臨的芯片生產(chǎn)的難題，以后再也不怕“卡脖子”了。

只要ASML的光刻機(jī)到位后，投入生產(chǎn)，備受關(guān)注，讓我們倍感焦慮的華為手機(jī)就可以重新起航了。這一年多，華為手機(jī)被折騰得夠嗆，本來(lái)已經(jīng)登頂世界第一了，由于芯片問(wèn)題，又被急剎車(chē)，眼睜睜地看著這頂桂冠再被搶走。

當(dāng)然，我們也可以想象到，ASML給中芯國(guó)際的，不可能是最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，而應(yīng)該是DUV光刻機(jī)。DUV能夠解決14nm的生產(chǎn)，不能實(shí)現(xiàn)更先進(jìn)的7nm、5nm芯片的生產(chǎn)。但7nm、5nm芯片在市場(chǎng)上只占少數(shù)，90%以上的市場(chǎng)需求還是14nm的芯片。也就是說(shuō)，只要ASML光刻機(jī)一來(lái)，就能解決我國(guó)芯片市場(chǎng)的主要需求。

更最重要的是，擁有了ASML光刻機(jī)，我們就可以既不丟市場(chǎng)，不影響企業(yè)生產(chǎn)，又贏得了寶貴的時(shí)間，進(jìn)行先進(jìn)光刻機(jī)的研發(fā)。當(dāng)然，要徹底解決芯片不被“卡脖子”的情況，還是要求我們擁有自主研發(fā)的先進(jìn)光刻機(jī)。這是個(gè)難題，但相信中國(guó)人民的智慧是無(wú)窮的，最終解決先進(jìn)光刻機(jī)只是一個(gè)時(shí)間問(wèn)題。實(shí)踐已經(jīng)證明，再高端再先進(jìn)再困難的技術(shù)，只要給中國(guó)科研工作者時(shí)間，我們就能克服一切困難，實(shí)現(xiàn)自主研發(fā)。

攻克國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)核心技術(shù)方面，我國(guó)也是捷報(bào)頻傳。上海微電子的28nm光刻機(jī)今年已經(jīng)成功交付。最近，清華大學(xué)宣布在光刻機(jī)核心技術(shù)的光源技術(shù)上實(shí)現(xiàn)了新突破，找到了了功率更大，穩(wěn)定性更強(qiáng)的SSMB光源，這種高功率、高重頻、窄帶寬的相干輻射，波長(zhǎng)可覆蓋從太赫茲到極紫外（EUV）波段，一旦被應(yīng)用到光刻機(jī)上，將比美國(guó)、德國(guó)的極紫外光源更加優(yōu)越。而南大光電自主研發(fā)的ArF（193nm）光刻膠可用于7nm芯片制造材料，打破了日本企業(yè)的壟斷。

在2025年要實(shí)現(xiàn)芯片自給自足70%的目標(biāo)面前，雖然道路是曲折的，但前途是光明的。我們有充分理由相信，中國(guó)一定行！

2021年3月10日 北京西城

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